Мир железа IBM и Samsung объявили о прорыве в области полупроводниковых технологий

Discussion in 'Мировые новости. Обсуждения.' started by SPUTNIK, 16 Dec 2021.

  1. SPUTNIK

    SPUTNIK Active Member

    Joined:
    15 Feb 2006
    Messages:
    824
    Likes Received:
    275
    Reputations:
    3
    Новая разработка бросает вызов традиционному дизайну
    [​IMG]

    Закон Мура, согласно которому количество транзисторов в микросхемах примерно удваивается каждые два года, быстро приближается к тому, что считается непреодолимым препятствием.

    Исторически транзисторы проектировались так, чтобы «лежать» на поверхности полупроводникового кристалла, при этом электрический ток течёт в горизонтальном направлении. Новые транзисторы, получившие название Vertical Transport Field Effect Transistors, или VTFET, формируются перпендикулярно поверхности кристалла, и ток в них течёт вверх или вниз.

    Процесс VTFET устраняет многие препятствия на пути дальнейшему повышению производительности степени интеграции. Он также касается контактов транзисторов, позволяя получить больший ток с меньшими потерями энергии. В целом новая конструкция нацелена на двукратное улучшение производительности или на сокращение энергопотребления на 85% по сравнению с FinFET.


    IBM and Samsung Unveil Semiconductor Breakthrough That Defies Conventional Design

    В пресс-релизе, посвящённом прорыву, отмечено, что глобальный дефицит полупроводниковой продукции «подчеркнул критически важную роль инвестиций в исследования и разработки микросхем, а также важность микросхем во всем: от вычислений до бытовой техники, устройств связи, транспортных систем и критически важных инфраструктур».

    Разработка была выполнена специалистами комплекса Albany Nanotech Complex, который назван «ведущей в мире экосистемой для исследований в области полупроводников, создающей мощный поток инноваций, помогая удовлетворить потребности производства и ускорить рост мировой индустрии микросхем».

    Источник https://www.ixbt.com/news/2021/12/1...e-v-oblasti-poluprovodnikovyh-tehnologij.html
     
Loading...